2017年9月19日～22日に仙台国際センターで開催されたInternational Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)にて研究発表を行いました (発表日は9月21日)。
この発表は、有機トランジスタの製造性を向上させる回路解析フローに関するものです。有機トランジスタ製造のためのメタルマスクは、外部からの応力により容易に変形してしまう恐れがあります。従来は、変形の恐れがあるパターンを複数マスクに分割して形成して変形を防いでいましたが、配線長が長くなる傾向があるなど回路性能の低下が懸念されていました。本研究では回路性能の解析とメタルマスクの応力解析を組合せたフローを提案しており、これにより回路性能の低下を抑えつつメタルマスクの変形を低減することが可能となる見通しを得ています。本研究は、産総研、奈良先端大との共同研究です。
- Michihiro Shintani, Kazunori Kuribara, Yasuhiro Ogasahara, Masayuki Hiromoto, and Takashi Sato, “A design-analysis flow considering mechanical stability of metal masks for organic CMOS circuits,” in Proc. IEEE International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM), pp.91-92, September 2017.
