Tag Archives: ACM

(日本語) DAC2017

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(日本語) DATE 2017

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(日本語) DAC2017採択決定

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ACM/IEEE ASPDAC 2017

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(日本語) ASP-DAC2017採択決定

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(日本語) DAC2016

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(日本語) VMC2015

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(日本語) ICCAD2014 採択決定

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VMC2013

在2013年11月21日San Jose举办的IEEE/ACM Workshop on Variability Modeling and Characterization (VMC2013)会议中,D2的粟野先生发表了关于集成电路长期信赖性的文章。虽然集成电路被称为消磨损耗非常低的器件,但是随着尺寸的缩小,器件老化带来的问题也日益加重。特别是偏置电压随温度的不稳定性(BTI)越来越受到重视。 在此次发表中,讲述了对于数百晶体管的关于BTI劣化特性的偏差的测量。通常对BTI裂化的测量,1个晶体管往往要花费数小时到一天的时间,使偏差的测量变得不可能。为了解决这一问题,采用并行测量的电路设计方案,进行了65nm工艺芯片的制作。 在对BTI劣化中偏差的分析,可以防止乐观的或悲观的劣化预测。 Hiromitsu Awano, Masayuki Hiromoto, and Takashi Sato, “Statistical Observation of NBTI and PBTI Degradations,” Workshop on variability modeling and characterization (VMC), November 2013. (San Jose, CA). 同时,在同一个Workshop中,佐藤先生也进行了演讲 Takashi Sato, … Continue reading

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DATE 2013

2013年3月18日~22日Design, Automation & Test in Europe (DATE) 2013在法国格勒诺布尔市举办,本研究室今川学长和2009年度本研究室在籍的Rákossy先生进行了研究成果发表。 Zoltán Endre Rákossy, Masayuki Hiromoto, Hiroshi Tsutsui, Takashi Sato, Yukihiro Nakamura, and Hiroyuki Ochi: “Hot-Swapping Architecture with Back-Biased Testing for Mitigation of Permanent Faults in Functional Unit Array,” Design, Automation & Test … Continue reading

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