2017年9月12日〜15日に東京都市大学 世田谷キャンパスで開催された電子情報通信学会ソサイエティ大会において本研究室B4のQINが研究発表を行いました（発表日は14日）．
QINの発表は，有機トランジスタCMOS回路の製造に使用するメタルマスクのデザインルールに関するものです．有機トランジスタは，薄くて曲げられる基板上に印刷により回路を構成できる技術として近年注目が集まっています．有機トランジスタを用いたCMOS回路の製造工程ではメタルマスクを使用しますが，これを磁力により固定する際にパターンによっては変形する可能性があります．そこで本研究ではマスクパターンのデザインルールを検討するため，典型的ないくつかのマスクパターンを対象にCEAツールによる応力解析を行い，その最大変位を確認しました．マスクの変形を許容範囲内に抑えるためには，回路特性とマスク形状の双方を考慮したマスク設計が必要であることを示しました．
- Zhaoxing Qin, 新谷 道広, 栗原 一徳, 小笠原 泰弘, 廣本 正之, 佐藤 高史:
“有機トランジスタCMOS回路製造のためのメタルマスクの要素設計ルールに関する一検討”, 電子情報通信学会ソサイエティ大会 , A-6-9, 2017年9月.
