Daily Archives: 2013年11月29日 星期五

VMC2013

在2013年11月21日San Jose举办的IEEE/ACM Workshop on Variability Modeling and Characterization (VMC2013)会议中,D2的粟野先生发表了关于集成电路长期信赖性的文章。虽然集成电路被称为消磨损耗非常低的器件,但是随着尺寸的缩小,器件老化带来的问题也日益加重。特别是偏置电压随温度的不稳定性(BTI)越来越受到重视。 在此次发表中,讲述了对于数百晶体管的关于BTI劣化特性的偏差的测量。通常对BTI裂化的测量,1个晶体管往往要花费数小时到一天的时间,使偏差的测量变得不可能。为了解决这一问题,采用并行测量的电路设计方案,进行了65nm工艺芯片的制作。 在对BTI劣化中偏差的分析,可以防止乐观的或悲观的劣化预测。 Hiromitsu Awano, Masayuki Hiromoto, and Takashi Sato, “Statistical Observation of NBTI and PBTI Degradations,” Workshop on variability modeling and characterization (VMC), November 2013. (San Jose, CA). 同时,在同一个Workshop中,佐藤先生也进行了演讲 Takashi Sato, … Continue reading

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